Cartutx de filtre de titani porós 1um per al processament humit de semiconductors

El cartutx de filtre de titani porós d'1 um per al processament de semiconductors en humit ofereix una retenció de partícules- absoluta en entorns químics agressius on les membranes de polímer s'inflen o es degraden. Fabricat amb pols industrial de titani d'alta puresa -superior o igual al 99,4% mitjançant premsat isostàtic en fred i sinterització al buit d'alta-temperatura, aquest filtre sinteritzat de pols metàl·lica aconsegueix una estructura microporosa uniforme amb una porositat del 30-40% i una distribució estreta de la mida dels porus. En la filtració de descarbonització de la producció farmacèutica API, el filtre de varetes de titani sinteritzat d'1 μm captura els residus de carbó actiu i les fines del catalitzador dels licors mare d'alta-viscositat, amb una capacitat de rentat reutilitzable que allarga la vida útil diverses vegades més enllà de les alternatives de membrana. La fabricació de semiconductors de procés humit-integra filtres sinteritzats de pols de titani d'1 um a les línies de lliurament de productes químics per a corrents SC-1, SC-2, HF al 49% i HNO₃, on el substrat de titani resisteix a les picades d'entorns rics en clorur que corroeixen l'acer inoxidable. La qualificació de precisió d'1um elimina partícules submicròniques que contenen silici i contaminants metàl·lics sense vessar partícules, mantenint la puresa del filtrat necessària per al processament d'hòsties a escala nanomètrica.

Les aplicacions de bucle de tractament d'aigua d'alta -puresa implementen un cartutx de filtre de titani porós d'1um per al processament humit de semiconductors com a filtració de seguretat final per davant dels sistemes d'ultrafiltració i EDI, on l'element sinteritzat en pols de titani resisteix l'esterilització periòdica d'ozó i el vapor-en{{3}cicles de fins a 280 graus en condicions ambientals. A diferència dels filtres de profunditat de polipropilè o dels cartutxos de membrana de PTFE que s'estoven o es deslaminen sota el cicle tèrmic, la matriu de titani-sinteritzat al buit conserva la integritat dimensional en el rang de pH 1-14 i suporta pressions diferencials de fins a 5,0 bar sense col·lapse de l'estructura de porus. Els bucles de poliment de purins CMP a les fàbriques avançades utilitzen cartutxos de filtre de titani d'1 μm post{13}}etapes d'adsorció de resina per atrapar partícules abrasives aglomerades de gran mida alhora que es conserven la distribució dissenyada de la mida de les partícules de sílice col·loidal o purins de ceria. La característica de no-eliminació de partícules i la regenerabilitat en línia mitjançant el retroflux o la neteja per ultrasons permeten la reutilització repetida, reduint la freqüència de substitució del filtre i els costos operatius en operacions contínues de banc humit de semiconductors.

Classificació de filtració de precisió: el cartutx de filtre de titani porós d'1um ofereix una retenció de partícules-classificada absoluta a les línies de processament humit de semiconductors, eliminant residus de silici submicrònics, contaminants metàl·lics i partícules semblants a gel- de productes químics agressius com HF, HNO₃, SC-1 i SC-2 sense avançament.

Resistència a la corrosió en rangs de pH extrems: fabricat amb pols de titani d'alta puresa -del 99,4% o superior mitjançant sinterització al buit, aquest cartutx de filtre de titani sinteritzat suporta entorns de pH 1-14, resistint l'atac de picat i clorur que degrada ràpidament els filtres químics de distribució d'acer inoxidable o Hastelloy.

Alta estabilitat tèrmica per a cicles DIW i SIP calents: el filtre sinteritzat de pols de titani suporta un funcionament continu a 280 graus en condicions humides, suportant l'esterilització de vapor-in-al lloc (SIP) i els esbandits d'aigua desionitzada calenta sense suavitzar, delaminar o lixiviar els extractors de membrana o els cartutxos de polipropilene de polipropilene.

No particle shedding – Unlike depth filters or wound cartridges, the rigid sintered metal structure eliminates fiber release or media migration, maintaining ultrapure filtrate essential for nanometer-scale wafer fabrication where any foreign particle >0,5 μm provoca defectes fatals del dispositiu.

Excel·lent regenerabilitat del rentat: el cartutx de filtre de titani porós d'1um admet el retroflux en línia, la neteja per ultrasons i la regeneració d'àcids, eliminant els sòlids capturats i restaurant els cabals inicials durant desenes de cicles de reutilització, reduint significativament la freqüència de substitució del cartutx i els costos operatius en fabriques de gran volum-.

Alta tolerància a la pressió diferencial: la matriu de titani sinteritzat al buit-manté la integritat de l'estructura dels porus sota pressions diferencials de fins a 5,0 bar, superant els filtres de membrana que es col·lapsen o es trenquen durant els fluxos de sobretensió o els esdeveniments d'obstrucció en equips de processament humit de semiconductors.

Línies de distribució química d'alta -puresa en fàbriques d'hòsties: instal·lades en carcasses de filtres de punt--d'ús (POU) per a corrents de HF, HNO₃, NH₄OH, H₂SO₄ i HCl al 49%, el cartutx de filtre de titani sinteritzat d'1um abans d'eliminar els cartutxos de filtre subpol·límic de silici i partícules metàl·liques processadors de-hòsties individuals.

Bucles de recirculació d'aigua desionitzada ozonitzada (DIO₃): s'aplica com a filtració de seguretat a les eines de neteja post-CMP i d'eliminació de fotoresistència. El cartutx de titani porós d'1um resisteix concentracions d'ozó de fins a 20 ppm i l'exposició UV contínua, on els filtres de polipropilè es fragilitzen i les membranes de PTFE perden integritat mecànica.

CMP slurry polishing loops – final polish and bulk removal – Positioned after slurry blending tanks and before dispense arms for colloidal silica, ceria, or alumina slurries. The sintered titanium filter traps over-sized agglomerates (>1um) tot preservant la distribució nativa de la mida de les partícules i el potencial zeta, mantenint una taxa d'eliminació constant i dins de la-no{2}}uniformitat de l'hòstia (WIWNU).

Filtració d'aigua del fregador de la caixa de raspalls de post{{0}CMP: instal·lada a les línies d'aigua desionitzada que alimenten els raspalls de PVA per recuperar les partícules abrasives residuals i els ions de coure després de polir les hòsties. La qualificació absoluta d'1um evita microesgarrapades en coure i superfícies dielèctriques de baix -k durant el contacte del raspall.

Filtre de seguretat final de bucle de polit d'aigua ultrapura (UPW): col·locat per davant de les vàlvules del punt-d'-ús (POU) a les estacions de gravat i esbandida humits. El cartutx de filtre de pols de titani funciona en cicles UPW calents (80 graus) i periòdics d'esterilització per vapor sense vessar partícules, mantenint el control bacterià i el recompte de partícules per sota dels requisits de la classe 1.

Banys de revestiment de níquel i cobalt sense electros per a capes de barrera/llavor - Integrats a les patines de purificació del bany de revestiment per eliminar la contaminació de partícules dels estabilitzadors i agents complexants. La matriu de titani resistent a la corrosió-funciona a temperatures elevades (70-90 graus) i pH alcalí sense fragilitat per hidrogen ni contaminació del bany.

Tel: 0917-3873009

Telèfon: +86 18992731201

Correu electrònic:zhangjixia@bjygti.com

Fax: 0917-3873009

Adreça: No. 195, Gaoxin Avenue, High-tech Development Zone, Baoji City, Shaanxi, Xina

Whatsapp: +86 18992731201

Etiquetes populars: Cartutx de filtre de titani porós 1um per al processament humit de semiconductors, Xina, proveïdors, fabricants, personalitzat, ús, llista de preus, a la venda, en estoc, mostra gratuïta, material porós